收藏本站
当前位置：
什么是光刻机？
简要描述：
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。
打印当前页
免费咨询：0755-83031813
发邮件给我们：sumzi@sumzi.com
分享到：
- 产品概述
- 技术参数
- 功能框图
- 数据表
产品概述：
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。
光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
光刻是集成电路最重要的加工工艺。光刻技术跟照相技术差不多，照相是将镜头里的图画“印”到底片上，而光刻是将电路图和电子元件“刻”到“底片”上。在光刻工艺中，通常以涂满光敏胶的硅片作为“底片”，电路图案经光刻机，缩微投射到“底片”上。制造芯片，要重复几十遍这个过程。这就是光刻机的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。
光刻机的技术原理：
光刻机就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，薄片上电子线路图随之显现。光刻机技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，然后把图像信息传递到晶片（主要指硅片）或介质层上的一种工艺。
光刻机，按照不同的用途及光源有多种分类，现在大家说的主要是紫外光刻机，主要有DUV深紫外光及EUV极紫外光，DUV光刻机是目前大量应用的光刻机，波长是193nm，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10nm工艺都可以使用这种光刻机，而EUV极紫外光波长是13.5nm，EUV光刻机主要用于7nm及以下节点。
